Компания Novellus Systems официально представила новое поколение промышленной системы, предназначенной для производителей полупроводниковых микросхем. Главной особенностью новинки является способность обеспечить переход к 45-нм и 32-нм технологическим нормам. В настоящее время эта система уже используется в производстве по нормам 45 нм, говоря словами официального пресс-релиза, "лидирующим американским производителем DRAM" и "лидирующим американским производителем логических микросхем". Речь идет о системе SABRE Extreme. В свое время система SABRE стала первой в отрасли серийной системой для медного гальванопокрытия. Когда в 1998 году в производстве полупроводниковых микросхем начался переход от алюминиевых проводников к медным, Novellus Systems смогла воспользоваться ситуацией и захватила инициативу. По данным источника, в 2005 SABRE принадлежало 80% соответствующего рынка, и 9 из 10 ведущих производителей, выпускающих микросхемы с медными проводниками, использовали систему SABRE. В целом по всему миру сейчас работает более 250 таких систем, которые ежегодно обрабатывают 55 миллионов полупроводниковых пластин. Продуманная стратегия Novellus, построенная на обратной совместимости новых версий системы обеспечивает плавный переход к перспективным нормам 45 и 32 нм. К преимуществам системы SABRE Extreme производитель относит усовершенствованный процесс химической обработки, получивший название Viaform Extreme, способный обеспечить повышенные показатели заполнения узких, вытянутых вертикально элементов, что крайне необходимо для 45-нм и 32-нм процессов. Кроме того, в ячейках для электролиза применены современные наработки в области создания мембран, что позволило повысить эффективность работы оборудования и снизить стоимость расходных материалов вдвое. Отмечается также, что в системе SABRE Extreme удалось уменьшить физические размеры "полей" по краю пластины, что позволило увеличить полезную площадь кристалла примерно на 1% и повысить выход готовой продукции в расчете на одну пластину.